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      金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD) 查看詳情>>
      SMI有著悠久的制造MOCVD及各種配套零部件的歷史,如今隨著技術能力的擴展,可以幫助用戶把已有的MOCVD升級/轉換成另一種全新材料制備的設備。同時,系統也可以集成等離子體或超高真空。
      等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 查看詳情>>
      幾乎任何可以被離化的物質均可以來制備內壁涂層。此項技術可以用制備碳基薄膜,金屬膜,氧化物膜。制備的薄膜可以導電也可以不導電。另外很重要的優勢是,此技術可以實現高速生長,相比于普通等離子化學氣相沉積,可以顯著降低加工成本。
      濕法刻蝕 查看詳情>>
      濕法刻蝕清洗設備有自動、手動系列產品,主要要應用于半導體行業、光伏行業、LED、微機電系統MEMS等行業的腐蝕清洗。
      微弧氧化(MAO) 查看詳情>>
      微弧氧化技術對輕質材料的表面防護是革命性的技術,可以實現各類表面材料的生長,如鋁合金,鎂合金,鈦合金等。使用一種獨特的氧化技術,把金屬表面轉變成一種薄薄的、致密的、非常硬的陶瓷層,此陶瓷層罕見地把硬度,強度以及耐磨和耐腐蝕等性能結合在一起,是其它傳統表面處理技術所無法比擬的。
      濺射陰極 查看詳情>>
      根據客戶工藝需求,我公司磁控濺射陰極可以匹配不同工藝應用需求。單根磁控濺射平面或者圓柱陰極可以匹配直流或者直流脈沖電源。雙根磁控濺射平面或者圓柱陰極可以組成一對互為陰陽極的孿生陰極,可以匹配雙極脈沖電源或者雙極中頻電源。具體加載功率與陰極尺寸、靶材有關。
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